リソグラフィ装置の世界市場（2026年～2032年）、市場規模（EUVリソグラフィシステム、ArFiリソグラフィシステム、ArFドライリソグラフィシステム、KrFリソグラフィシステム、I線リソグラフィシステム、FPDリソグラフィシステム）・分析レポートを発表

株式会社マーケットリサーチセンター（本社：東京都港区、世界の市場調査資料販売）では、「リソグラフィ装置の世界市場（2026年～2032年）、英文タイトル：Global Lithography Equipment Market 2026-2032」調査資料を発表しました。本資料には、リソグラフィ装置の世界市場規模、市場動向、セグメント別予測（EUVリソグラフィシステム、ArFiリソグラフィシステム、ArFドライリソグラフィシステム、KrFリソグラフィシステム、I線リソグラフィシステム、FPDリソグラフィシステム）、関連企業の情報などが盛り込まれています。

■ 主な掲載内容

世界のリソグラフィ装置市場規模は、2025年の250億6400万米ドルから2032年には460億米ドルへと拡大すると予測されており、2026年から2032年にかけて年平均成長率（CAGR）7.7％で成長すると見込まれています。
リソグラフィシステムは、レチクル（マスク）のパターンをフォトレジストに転写し、下流のプロセスステップ（エッチング、成膜、イオン注入など）を可能にする、基礎的なパターニングツールセットです。 実際には、その範囲は、半導体リソグラフィシステム（解像度、オーバーレイ/CDU、スループット、プロセスウィンドウに極めて厳しい要件が課されるシリコンウェーハ上のパターニング）と、FPDリソグラフィシステム（LCDおよびOLEDディスプレイ製造のための大型ガラス基板、通常はTFT層のパターニング）に及びます。 FPD 分野は、非常に大きな基板フォーマットと、フィールドサイズ、広範囲にわたるスティッチング/アライメント、均一性、生産性が強く重視されるという点で構造的に差別化されていますが、半導体分野は、波長と開口数（NA）の物理的限界に挑戦しています。 3 つ目の急成長分野は、アドバンスト・パッケージングです。ここでは、リソグラフィが、より大きな基板やパネル、および再配線層（RDL）やパネルレベル・パッケージングのためのより厳密なオーバーレイにますます適用されており、ウェハーと FPD のノウハウを効果的に橋渡ししています。
製品タイプ別では、半導体リソグラフィは一般的に、i-line（365 nm）、KrF（248 nm）、ArF（193 nm、ドライおよび液浸/ArFi を含む）、EUV（13.5 nm）に分類されます。 高NA EUVは、NAを0.55に引き上げ、解像度を向上させるとともに、最も重要な層におけるマルチパターニングの負担を軽減し、最先端ノードにおける次の主要なプラットフォーム移行を象徴しています。 世界の 3 大半導体リソグラフィーサプライヤーのベンダーマッピングを見ると、ASML はウェハー・フロントエンドの EUV/DUV プラットフォームをリードし、高 NA EUV (EXE) の産業化を進めています。キヤノンのラインナップは、KrF スキャナー/ステッパー、FEOL および先進パッケージング向け i-line ステッパーを網羅しており、差別化されたパターニング手法としてナノインプリントリソグラフィー (NIL) の商用化も進めています。 キヤノンのFPA-8000iWは、i線ステッピングを大型パネル基板（最大約515×510 mm）まで拡張し、約1.0 µmクラスの解像度と、パネルレベルパッケージング向けの反りパネル対応を実現している。 ニコンは、半導体フロントエンド（ArF液浸を含む）およびバックエンド／先進パッケージング用リソグラフィシステムを提供しており、LCD/OLED向けTFTパターニングと、マルチレンズ広域露光アーキテクチャによる大型マザーガラス（例：Gen 10.5）へのスケールアップを重視した、FPDリソグラフィ専用の製品ポートフォリオを維持している。 同社のDSP-100デジタルリソグラフィー・イニシアチブは、FPDの大基板技術と、先進パッケージング向けの半導体グレードの撮像およびオーバーレイ要件との融合を際立たせている。
市場の現状と動向は、ハイエンド市場における構造的な集中によって特徴づけられている。公開情報によれば、ASMLは長らくハイエンド露光装置市場で支配的な地位を占め、事実上EUVシステムの唯一の商用サプライヤーとされてきた。一方、ASMLの2024年の開示資料では、初のHigh-NA EUVシステムの顧客への設置・納入および関連する収益計上が確認されており、High-NA技術が長期にわたる研究開発段階から初期の産業導入段階へと移行していることを示している。 中期的には、現実的な業界の軌跡は「EUVの拡大と、先進DUVとの長期的な共存」となる。 高NA EUVは、クリティカル層の微細化と製造コスト（CoO）の最適化によって牽引される一方、i線/KrF/ArFiは、成熟ノードおよび特殊ノード向けの生産能力増強や、マルチパターニングを多用するプロセスフローによって引き続き支えられる（ニコンは、非微細化半導体分野におけるi線およびKrF生産装置への活発な需要を明確に指摘している）。 FPD分野では、構造的なアップグレードとして「大型マザーガラス＋高解像度＋OLEDの普及」が進行しており、Gen 10.5の微細化や4K/8K生産の最適化に見合う能力要件が求められている。並行して、先進パッケージングにおけるパネル化（PLP）が進むことで、キヤノンのFPA-8000iWやニコンのDSP-100といった大型パネル用リソグラフィプラットフォームの戦略的価値が高まっている。 主な推進要因は、AI/HPCおよび先進メモリの需要（ウェハあたりのリソグラフィー集積度を高め、ファブ装置への投資を持続させる）に加え、装置やソフトウェア（計算リソグラフィーを含む）の入手可能性に影響を与える地政学的な要因や輸出規制であり、これらがリソグラフィーシステムを生産能力の制約要因かつ戦略的に重要な資産として位置づけている。
「リソグラフィ装置業界予測」では、過去の売上実績を検証し、2025年の世界リソグラフィ装置総売上高を分析するとともに、2026年から2032年までの予測売上高について、地域および市場セクター別の包括的な分析を提供します。本レポートでは、リソグラフィ装置の売上を地域、市場セクター、サブセクター別に分類し、世界のリソグラフィ装置業界について、単位：百万米ドルで詳細な分析を行っています。
本インサイトレポートは、世界の露光装置業界の全体像を包括的に分析し、製品セグメンテーション、企業動向、収益、市場シェア、最新の開発動向、M&A活動に関連する主要なトレンドを明らかにします。また、露光装置のポートフォリオと能力、市場参入戦略、市場での位置づけ、地理的展開に焦点を当て、世界的な露光装置市場の加速する動向の中で、主要グローバル企業の独自の立場をより深く理解できるよう、各社の戦略を分析しています。
本インサイトレポートは、リソグラフィ装置の世界的な見通しを形作る主要な市場動向、推進要因、および影響要因を評価し、露光光源別、用途別、地域別、市場規模別に予測を細分化することで、新興のビジネスチャンスを浮き彫りにします。数百件に及ぶボトムアップ型の定性的・定量的市場データに基づく透明性の高い方法論により、本調査の予測は、世界のリソグラフィ装置市場の現状と将来の軌跡について、極めて精緻な見解を提供します。
本レポートでは、製品タイプ、用途、主要メーカー、主要地域および国別に、リソグラフィ装置市場の包括的な概要、市場シェア、成長機会を提示しています。

露光光源別セグメンテーション：
EUVリソグラフィシステム
ArFiリソグラフィシステム
ArFドライリソグラフィシステム
KrFリソグラフィシステム
I線リソグラフィシステム
FPDリソグラフィシステム

プロセス別セグメンテーション：
ロジック
メモリ
FPDリソグラフィシステム
その他

ウェーハサイズ別セグメンテーション：
12インチウェーハFAB
8インチウェーハFAB
パッケージング用リソグラフィシステム
フラットパネルディスプレイ（FPD）

用途別セグメンテーション：
フロントエンド用リソグラフィシステム
アドバンストパッケージング用リソグラフィシステム
FPD用リソグラフィシステム

本レポートでは、地域別にも市場を分類しています：
米州
米国
カナダ
メキシコ
ブラジル
アジア太平洋地域（APAC）
中国
日本
韓国
東南アジア
インド
オーストラリア
欧州
ドイツ
フランス
英国
イタリア
ロシア
中東・アフリカ
エジプト
南アフリカ
イスラエル
トルコ
GCC諸国

本レポートで取り上げている以下の企業は、主要な専門家からの情報および各社の事業範囲、製品ポートフォリオ、市場浸透度を分析した上で選定されています。
ASML
キヤノン
ニコン
SMEE

本レポートで取り上げる主な質問
世界の露光装置市場の今後10年間の見通しは？
世界全体および地域別に、リソグラフィ装置市場の成長を牽引している要因は何か？
市場および地域別に、最も急速な成長が見込まれる技術はどれか？
リソグラフィ装置市場の機会は、エンド市場の規模によってどのように異なるか？
リソグラフィ装置は、露光光源別、用途別にどのように分類されるか？


■ 各チャプターの構成

第1章には、レポートの範囲に関する情報が記載されています。具体的には、市場の導入、調査対象となる期間、調査目的、市場調査の手法、調査プロセスとデータのソース、経済指標、考慮される通貨、そして市場推定に関する注意点が網羅されています。

第2章には、エグゼクティブサマリーが収録されています。世界の市場概要として、グローバルなリソグラフィ装置の年間販売量（2021年から2032年）、地域別の現在および将来の分析（2021年、2025年、2032年）、国/地域別の現在および将来の分析（2021年、2025年、2032年）が含まれています。また、露光源別のリソグラフィ装置セグメントとして、EUVリソグラフィシステム、ArFiリソグラフィシステム、ArFドライリソグラフィシステム、KrFリソグラフィシステム、I-lineリソグラフィシステム、FPDリソグラフィシステムが挙げられ、それぞれのグローバル販売量市場シェア、収益と市場シェア、販売価格（2021年から2026年）が分析されています。さらに、プロセス別のリソグラフィ装置セグメント（ロジック、メモリ、FPDリソグラフィシステム、その他）、ウェーハサイズ別のリソグラフィ装置セグメント（12インチウェーハFAB、8インチウェーハFAB、フラットパネルディスプレイ）、およびアプリケーション別のリソグラフィ装置セグメント（フロントエンドリソグラフィシステム、アドバンストパッケージングリソグラフィシステム、FPDリソグラフィシステム）についても、それぞれのグローバル販売量市場シェア、収益と市場シェア、販売価格（2021年から2026年）が詳細に示されています。

第3章には、企業別のグローバル分析の詳細が示されています。グローバルなリソグラフィ装置の年間販売量および販売量市場シェア（2021年から2026年）、年間収益および収益市場シェア（2021年から2026年）、企業別の販売価格が分析されています。主要メーカーのリソグラフィ装置の生産地域分布、販売地域、製品タイプ、および提供される製品に関する情報が含まれています。市場集中度分析として、競争環境分析、集中度（CR3、CR5、CR10）および（2024年から2026年）が記載されています。新製品および潜在的参入企業、市場のM&A活動および戦略についても言及されています。

第4章には、地理的地域別の世界過去レビューが記載されています。世界の過去のリソグラフィ装置市場規模として、地理的地域別の年間販売量および年間収益（2021年から2026年）が示されています。また、国/地域別の年間販売量および年間収益（2021年から2026年）も提供されています。アメリカ、APAC、ヨーロッパ、中東およびアフリカにおけるリソグラフィ装置の販売成長がそれぞれ分析されています。

第5章には、アメリカ市場に特化した詳細な分析が示されています。アメリカのリソグラフィ装置の国別販売量および収益（2021年から2026年）、露光源別の販売量（2021年から2026年）、アプリケーション別の販売量（2021年から2026年）が含まれています。米国、カナダ、メキシコ、ブラジルの各国の市場状況が個別に扱われています。

第6章には、APAC市場に特化した詳細な分析が示されています。APACのリソグラフィ装置の地域別販売量および収益（2021年から2026年）、露光源別の販売量（2021年から2026年）、アプリケーション別の販売量（2021年から2026年）が含まれています。中国、日本、韓国、東南アジア、インド、オーストラリア、中国台湾の各地域の市場状況が個別に扱われています。

第7章には、ヨーロッパ市場に特化した詳細な分析が示されています。ヨーロッパのリソグラフィ装置の国別販売量および収益（2021年から2026年）、露光源別の販売量（2021年から2026年）、アプリケーション別の販売量（2021年から2026年）が含まれています。ドイツ、フランス、イギリス、イタリア、ロシアの各国の市場状況が個別に扱われています。

第8章には、中東およびアフリカ市場に特化した詳細な分析が示されています。中東およびアフリカのリソグラフィ装置の国別販売量および収益（2021年から2026年）、露光源別の販売量（2021年から2026年）、アプリケーション別の販売量（2021年から2026年）が含まれています。エジプト、南アフリカ、イスラエル、トルコ、GCC諸国の各国の市場状況が個別に扱われています。

第9章には、市場の推進要因、課題、トレンドに関する分析が収録されています。具体的には、市場の推進要因と成長機会、市場が直面する課題とリスク、そして業界のトレンドが詳細に分析されています。

第10章には、製造コスト構造分析が記載されています。原材料とサプライヤーに関する情報、リソグラフィ装置の製造コスト構造分析、リソグラフィ装置の製造プロセス分析、そしてリソグラフィ装置の産業チェーン構造が詳細に説明されています。

第11章には、マーケティング、流通業者、顧客に関する情報が提供されています。販売チャネルとして直接チャネルと間接チャネルが言及され、リソグラフィ装置の流通業者および顧客に関する詳細な情報が記載されています。

第12章には、地理的地域別の世界予測レビューが収録されています。グローバルなリソグラフィ装置市場規模の地域別予測として、地域別の販売量および年間収益予測（2027年から2032年）が示されています。アメリカ、APAC、ヨーロッパ、中東およびアフリカの各地域における国/地域別の予測（2027年から2032年）が提供されています。また、露光源別およびアプリケーション別のグローバルなリソグラフィ装置予測（2027年から2032年）も詳細に示されています。

第13章には、主要企業の詳細な分析が含まれています。ASML、Canon、Nikon、SMEEの各企業について、企業情報、リソグラフィ装置の製品ポートフォリオと仕様、リソグラフィ装置の販売量、収益、価格、粗利益（2021年から2026年）、主要事業概要、および最新の動向が個別に詳細に分析されています。

第14章には、調査結果と結論がまとめられています。この章では、レポート全体で得られた主要な知見と最終的な結論が提示されています。

■ リソグラフィ装置について

リソグラフィ装置は半導体製造プロセスや微細加工において、基板上にパターンを転写するための重要な機器です。この装置は、光を使ってフォトレジストと呼ばれる感光性材料にパターンを形成する役割を持っています。リソグラフィ技術を用いることで、トランジスタや配線などの微細な構造を基板上に作成し、最終的に集積回路を実現します。

リソグラフィ装置にはいくつかの種類があります。一般的に、光リソグラフィ、電子ビームリソグラフィ、X線リソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィなどが主に使用されます。

光リソグラフィは最も広く普及している方法であり、紫外線(UV)光を使用してパターンを転写します。このプロセスでは、レンズを用いて光を集束させ、マスクに描かれたパターンをフォトレジストに投影します。一般的には、193nmや248nmの波長を持つ光源が使用されており、先進的なプロセスでは極紫外線(EUV)リソグラフィが活用されています。この技術により、10nm以下の微細構造を実現することが可能です。

電子ビームリソグラフィは、高精度でナノスケールのパターンを刻むために電子ビームを使用します。主に研究開発や小ロット生産に用いられますが、速度が遅く大量生産には適していないため、一般的には他のリソグラフィ技術と併用されます。

X線リソグラフィは、高い解像度が必要とされる次世代のプロセス技術で、X線を利用してパターンを形成します。X線は波長が非常に短いため、微細なパターンを実現できる特性を持っていますが、装置が高価であり、実用化にはまだ課題があります。

ナノインプリントリソグラフィは、物理的な圧力を使ってフォトレジストを成型する方法です。この手法は、比較的低コストで高解像度なパターンを形成できるため、注目されています。しかしながら、プロセスの速さや均一性、使用材料の制約が課題とされています。

リソグラフィ技術の用途は多岐にわたりますが、特に半導体製造が中心です。半導体集積回路は、スマートフォン、コンピュータ、自動車などの電子機器に不可欠な要素であり、この技術によってその性能や機能が大きく向上しています。また、リソグラフィ技術は、MEMS（Micro-Electro-Mechanical Systems）や光学デバイス、伝導体や絶縁体の微細構造の製造にも使用されており、幅広い分野での重要性が増しています。

関連技術としては、フォトレジスト材料の開発や、露光プロセスの最適化、ダイシング（切断）やエッチング技術などが挙げられます。特に、フォトレジストは微細パターンを形成する上で重要な材料であり、その性能はリソグラフィ工程全体の品質に直結します。また、最新のリソグラフィ技術では、ドライエッチングやウェットエッチングなどの技術との組み合わせが進んでおり、これによりさらに高解像度のパターン形成が実現されています。

近年、リソグラフィ技術は、半導体製造の進展に伴い新たな挑戦に直面しています。トランジスタの微細化が進む中で、製造プロセスの限界が問題視されており、より高度なリソグラフィ技術の開発が求められています。将来的には、さらなる解像度の向上や、製造プロセスの効率化を目指した新しいアプローチが必要とされています。

リソグラフィ装置は、半導体産業における核心的な技術であり、今後も技術革新が期待されています。さまざまな新しい技術の進展により、リソグラフィ技術はますます高度化し、多様な産業分野への応用が広がることでしょう。これにより、私たちの生活をより便利で豊かにする新しい製品や技術が生まれることが期待されます。

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・レポートの形態：英文PDF（Eメールによる納品）
・日本語タイトル：リソグラフィ装置の世界市場2026年～2032年
・英語タイトル：Global Lithography Equipment Market 2026-2032

■株式会社マーケットリサーチセンターについて
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